抛光剂抛光液 发明专利 (393 )条
序号 专利号 名称
1 200410022936.0 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
2 02819416.0 抛光组合物
3 200410062868.0 抛光组合物
4 200410048782.2 用于化学机械抛光的浆料、抛光方法及半导体器件的制造方法
5 200410068895.9 玻化抛光地板砖防污剂及其制备方法
6 200410073845.X 玻化抛光地板砖清洗剂及其制备方法
7 03151420.0 用于铜布线化学机械抛光的清洗液提供装置
8 200410061103.5 自动供液抛光机
9 200410079743.9 用于半导体晶片的抛光组合物
10 200410055841.9 用于抛光半导体层的组合物
11 200410087078.8 在铜CMP中采用不包含氧化剂的抛光流体的第二步骤抛光方法
12 200410079102.3 抛光组合物
13 200310108609.2 水基地板抛光剂用乳胶
14 200410066674.8 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
15 200410073976.8 用于CMP的浆料、抛光方法及半导体器件的制造方法
16 200410011819.4 高速阻挡层抛光组合物
17 200410083441.9 抛光组合物
18 200310108751.7 磷酸脂改性的地板抛光剂用乳胶
19 200410080634.9 用于金属化学机械抛光的新型浆料
20 200310105203.9 一种化学机械抛光液
21 03802695.3 钨抛光溶液
22 200410092531.4 抛光组合物和抛光方法
23 200410096136.3 CMP浆料、抛光方法和半导体器件的制造方法
24 200410084490.4 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
25 01817652.6 一种化学-机械抛光浆料和方法
26 03804313.0 抛光组合物
27 200410096391.8 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
28 200410097812.9 抛光组合物和抛光方法
29 03805084.6 抛光组合物和用于形成配线结构的方法
30 200410104677.6 用于铜的受控抛光的组合物和方法
31 200410082137.2 用于铜的低下压力抛光的组合物和方法
32 200410092968.8 用于抛光铜的组合物和方法
33 200410104484.0 抛光组合物和抛光方法
34 200410093370.0 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
35 200510023377.X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
36 200510052407.X 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
37 200510052880.8 抛光组合物和抛光方法
38 03816146.X "金属抛光组合物,使用组合物进行抛光的方法以及使用抛光方法来生产晶片的方法"
39 200510055087.3 抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法
40 200410075899.X 抛光液和抛光有色金属材料的方法
41 03817168.6 含导电聚合物的抛光组合物
42 200410017002.8 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
43 200510059249.0 抛光用组合物及抛光方法
44 200510059251.8 抛光用组合物及抛光方法
45 200510059252.2 抛光组合物及抛光方法
46 03817386.7 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
47 200510067780.2 用于抛光半导体薄层的氧化铈浆料
48 03148693.2 铂化学机械抛光用的溶液
49 01817877.4 抛光工具及制造所述工具的组合物
50 01818866.4 包含粒状聚合物和交联聚合物粘结剂的抛光垫
51 02131871.9 化学抛光液
52 03127654.7 硅藻土磨料抛光剂的制备方法
53 02804506.8 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
54 03164917.3 共聚物水乳液和多价金属化合物之间的反应产物以及含有该产物的抛光组合物
55 03127205.3 抛光组合物
56 01818940.7 铜的化学机械抛光所用的浆料和方法
57 02151958.7 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
58 02810032.8 化学机械抛光组合物及其相关方法
59 03100995.6 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
60 200310124640.5 抛光液组合物
61 02157322.0 一种石材镜面效果抛光膏的制作方法
62 02803940.8 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
63 03154955.1 用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
64 02811936.3 铈基抛光料和铈基抛光浆料
65 200410007656.2 抛光组合物
66 03119904.6 液晶显示模块抛光装置
67 200410006812.3 化学机械抛光浆液
68 02814368.X 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
69 03800709.6 抛光方法及研磨液
70 02814331.0 改变浆料中氧化剂的浓度进行化学机械抛光(CMP)的方法
71 03114350.4 一种纳米级蓝宝石衬底的加工方法及其专用抛光液
72 01817367.5 用于倒装式结合在有焊料凸块晶片上预底填料的溶剂辅助抛光
73 01816826.4 抛光包括铜和钨的半导体器件结构中使用的浆液与固定磨料型抛光垫以及抛光方法
74 200410034215.1 抛光组合物
75 02815444.4 用于金属布线的化学机械抛光的浆液组合物
76 02816911.5 适用于自抛光防污漆的具有低含量可水解单体的粘结剂
77 200410043511.8 抛光组合物
78 200410043512.2 抛光组合物
79 200410038315.1 CMP用浆料、抛光方法和半导体器件的制造方法
80 02818538.2 稀土盐/氧化剂为基础的化学-机械抛光方法
81 200610001059.8 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液
82 200610033127.9 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
83 200510134775.9 磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法
84 200410081677.9 抛光组合物和抛光方法
85 200510067350.0 阻挡层抛光溶液
86 200510069987.3 化学机械抛光浆料及抛光基板的方法
87 200510078812.9 用于控制半导体晶片中金属互连去除速率的抛光组合物
88 200510035085.8 交联型环保汽车抛光剂的产业化生产
89 200380101871.2 化学机械抛光铜表面用的腐蚀延迟抛光浆液
90 01817653.4 一种化学-机械抛光铜镶嵌结构所用的浆料
91 200410096662.X 抛光砖防污剂的制膜设备及方法
92 200380102127.4 用于抛光金属的组合物、金属层的抛光方法以及生产晶片的方法
93 200380102722.8 抛光组合物和清洗组合物
94 03825534.0 用于硅晶片二次抛光的淤浆组合物
95 200510082370.5 化学机械抛光组合物及有关的方法
96 200510082371.X 化学机械抛光组合物及有关的方法
97 200380104676.5 双液体泡沫家具抛光漆
98 200380105203.7 使用磺化两性试剂的铜化学机械抛光溶液
99 200510071796.0 用于化学机械平坦化的多步抛光液
100 200410054780.4 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法
101 200380105924.8 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用的组合物
102 200380105929.0 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用组合物
103 200410011215.X 一种数控抛光用非接触式喷液磨头
104 200510088470.9 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
105 200510026996.4 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
106 200510084580.8 浆料、使用该浆料的化学机械抛光方法以及使用该浆料形成金属布线的方法
107 200380108506.4 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
108 200510087181.7 抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法
109 200510096619.8 浆料组合物、制备浆料组合物的方法以及使用浆料组合物抛光物体的方法
110 200480002648.7 可选择性阻隔金属的抛光液
111 200510099560.8 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
112 200510099561.2 抛光组合物和使用该抛光组合物的抛光方法
113 200510108259.9 抛光剂及基片的抛光方法
114 200480003457.2 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法
115 200410066515.8 用于硅上液晶器件的铝化学机械抛光回蚀
116 200510078963.4 基于氧化铈的抛光工艺和氧化铈基浆料
117 200480005222.7 包括磺酸的CMP组合物和用于抛光贵金属的方法
118 200480005290.3 可调控的去除阻隔物的抛光浆料
119 200510104170.5 抛光组合物和使用该组合物生产布线结构的方法
120 200410080080.2 钛镍合金电化学抛光液
121 200510113455.5 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
122 200510118816.5 抛光组合物
123 200510090552.7 浆料、化学机械抛光方法及用浆料形成电容器表面的方法
124 200510128707.1 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法
125 200510129056.8 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
126 200480012603.8 能够补偿纳米形貌效应的化学机械抛光用浆液组合物、以及利用其的半导体元件的表面平坦化方法
127 200480012930.3 用于铜和相关材料的改进的化学机械抛光组合物及其使用方法
128 200480013195.8 抛光组合物和抛光方法
129 200510136163.3 化学机械抛光用的选择性浆料
130 200510116191.9 用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法
131 200510136133.2 用来减少对半导体晶片侵蚀的抛光组合物
132 200610037921.0 液体喷射抛光的方法
133 200480012926.7 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
134 200510062405.9 抛光用组合物及其抛光方法
135 200510062406.3 抛光用组合物及抛光方法
136 200610059630.1 化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
137 200610059635.4 用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法
138 200610058484.0 制备具有高分散稳定性的抛光浆料的方法
139 200480022595.5 用于抛光导电材料的抛光组合物和方法
140 200480024448.1 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
141 200610013976.8 用于大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液
142 200610013977.2 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液
143 200610013978.7 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
144 200610013979.1 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
145 200610013980.4 用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
146 200610014029.0 半导体锑化铟化学机械抛光液
147 200610013981.9 蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法
148 200510071421.4 抛光组合物及抛光制品
149 200610084745.6 抛光组合物
150 200610076096.5 用于金属膜的CMP浆料、抛光方法以及制造半导体器件的方法
151 200510025298.2 抛光浆料及其用途和使用方法
152 200510025299.7 抛光浆料
153 200510025300.6 抛光浆料及其用途
154 200610014297.2 硅单晶衬底材料抛光液及其制备方法
155 200610014299.1 电子玻璃的纳米SiO₂磨料抛光液
156 200610035936.3 抛光砖专用化学抛光剂
157 200610014325.0 超大规模集成电路铝布线抛光液
158 200610014296.8 用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
159 200510025865.4 抛光浆料
160 200510025866.9 抛光浆料
161 200510025867.3 抛光浆料
162 200480025793.7 化学-机械抛光组合物及其使用方法
163 200510034820.3 一种抛光剂
164 200480017729.4 用于高效清洁/抛光半导体晶片的组合物和方法
165 200610083480.8 具有增强的抛光均匀性的二氧化铈浆液组合物
166 200610047159.4 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
167 200610014298.7 超大规模集成电路多层布线SiO₂介质的纳米SiO₂磨料抛光液
168 200480036590.8 用来减少浆液回流的化学机械抛光法
169 200510027990.9 化学机械抛光液
170 200610108551.5 抛光用组合物及抛光方法
171 200510027988.1 化学机械抛光液及其用途
172 200480040377.4 抛光组合物和抛光方法
173 200480040401.4 抛光组合物和抛光方法
174 200510035557.X 抛光液
175 200480041087.1 用于抛光衬底的方法和组合物
176 200610030551.8 金属化学机械抛光的抛光液原位批处理方法及所使用的装置
177 200610086232.9 高精度复合抛光液及其生产方法、用途
178 200610086233.3 高精度抛光液及其生产方法、用途
179 200610126796.0 抛光组合物及抛光方法
180 200610151796.6 可除去聚合物阻挡层的抛光浆液
181 200510037297.X 一种用于抛光砖成膜的纳米黏土改性硅化合物组合物及制备方法
182 200580009637.6 化学机械抛光组合物及使用其的方法
183 200580009957.1 用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物
184 200610135919.7 抛光用组合物及抛光方法
185 200610141458.4 抛光液体
186 200610142160.5 抛光组合物和抛光方法
187 200610139615.8 水性抛光液和化学机械抛光方法
188 200510030024.2 水基金刚石抛光液及其制备方法
189 200610099589.0 抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法
190 200610087629.X 一种碱性硅晶片抛光液
191 200510109406.4 电解抛光液和其平坦化金属层的方法
192 200510030871.9 用于阻挡层的化学机械抛光浆料
193 200510030870.4 铜的化学机械抛光浆料
194 200510030856.4 钽阻挡层用化学机械抛光浆料
195 200510030869.1 用于钽阻挡层的化学机械抛光浆料
196 200580017301.4 电化学-机械抛光组合物及使用其的方法
197 200610077360.7 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
198 200610105133.0 抛光液以及抛光Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体晶片的方法
199 200510086960.5 一种精密抛光晶片用有机物清洗液
200 200610169030.0 用来抛光半导体层的组合物
201 200510111676.9 化学机械抛光废液分流收集装置及其收集方法
202 200580025563.5 用于贵金属的抛光组合物
203 200580028933.0 抛光浆料，用于信息记录介质的玻璃基材的制造方法和信息记录介质的制造方法
204 200710008374.8 阻挡层用抛光液
205 200710006190.8 用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
206 200710019741.4 碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法
207 200710037163.7 一种蓝宝石衬底化学机械抛光浆液
208 200710005150.1 多组分阻挡层抛光液
209 200580031762.7 CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
210 200710092346.9 抛光剂
211 200580032714.X CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
212 200710051871.6 一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法
213 200710039894.5 一种低光泽抛光剂组合物及其制备方法
214 200680001015.3 用于化学机械抛光的二氧化铈粉末的制备方法及使用该粉末制备化学机械抛光浆料的方法
215 200580034854.0 用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
216 200610066889.9 半导体晶片精密化学机械抛光剂
217 200710022290.X 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
218 200710052198.8 一种高纯度纳米金刚石抛光膏及其制备方法
219 200580036004.4 包含表面活性剂的化学机械抛光(CMP)组合物
220 200710087714.0 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
221 200710099942.X H62黄铜抛光液及其制备方法
222 200580040887.6 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
223 200710028432.3 一种金属结合剂金刚石抛光块及其制备方法
224 200580041069.8 用于化学机械抛光浆料的辅助剂
225 200710103256.5 适用于化学机械抛光的浆料及方法
226 200710055788.6 抛光液自动滴液装置
227 200580042525.0 抛光溶液
228 200610026938.6 用于精细表面平整处理的抛光液及其使用方法
229 200610087601.6 一种用于锗晶片的抛光液及其制备方法
230 200610087602.0 一种用于砷化镓晶片的抛光液及其制备方法
231 200710106575.1 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
232 200710109894.8 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
233 200610014412.6 一种金属抛光液及其制备方法
234 200710135810.8 抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法
235 200580036187.X 用于化学机械抛光的系统、方法与研磨液
236 200610014590.9 一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法
237 200610014594.7 一种钨抛光液及其制备方法
238 200610014597.0 一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法
239 200610014604.7 一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法
240 200610014596.6 一种除藻型抛光液
241 200610014592.8 一种防冻型抛光液及其制备方法
242 200680002121.3 用于化学机械抛光的抛光浆液和方法
243 200610029268.3 用于抛光低介电材料的抛光液
244 200710025527.X 有色金属材料表面清洁抛光膏及其制备方法
245 200710143759.5 抛光用组合物以及抛光方法
246 200580047087.7 用于电-化学-机械抛光的方法和组合物
247 200610030457.2 用于抛光低介电材料的抛光液
248 200610030459.1 一种含有混合磨料的低介电材料抛光液
249 200710146854.0 抛光用组合物以及抛光方法
250 200710146855.5 抛光用组合物和抛光方法
251 02142015.7 抛光组合物
252 02155461.7 一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
253 01806808.1 用于自抛光防污漆料的无金属粘结剂
254 01807432.4 抛光剂和生产平面层的方法
255 02154315.1 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
256 02116759.1 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
257 02127360.X 抛光组合物及使用它的抛光方法
258 02157402.2 抛光组合物
259 02159810.X 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
260 02160886.5 用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接触插头的方法
261 02159045.1 用于钌的化学机械抛光的溶液
262 03103346.6 半导体基板的化学机械抛光方法和化学机械抛光用水分散液
263 01809394.9 抛光剂组合物
264 01811268.4 金属CMP用的抛光组合物
265 01811444.X 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
266 00819223.5 化学机械抛光用研磨剂
267 03103408.X 化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
268 01812907.2 抛光液组合物
269 01812364.3 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
270 02114147.9 铜化学－机械抛光工艺用抛光液
271 02800353.5 抛光剂及基片的抛光方法
272 00819633.8 包含纤维和含金属共聚物的自抛光型海洋防污漆组合物
273 02116761.3 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
274 95116303.5 金属表面抛光液
275 95193129.6 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
276 95120179.4 金属表面抛光溶液及抛光工艺
277 97101813.8 抛光组合物
278 96121008.7 抛光剂
279 85107373 一种快速抛光剂
280 87106089 石材研磨或抛光用组合物及其制造方法
281 88107422.5 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
282 87104262.2 铝及铝合金碱性化学抛光溶液
283 89106422.2 高效有色金属抛光膏及制备方法
284 89104530.9 抛光液
285 91101198.6 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
286 91101197.8 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
287 91104335.7 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
288 90107304.0 抛光方法和组合物
289 92100825.2 打磨抛光的砂轮组合物
290 93102414.5 抛光和刨平表面用的组合物和方法
291 92104320.1 无油水基研磨抛光膏
292 92108497.8 溶胶型硅片抛光剂
293 93117574.7 化合物半导体化学抛光腐蚀液
294 93105636.5 一种活性抛光剂及其制备方法
295 93118984.5 固体抛光剂
296 94193257.5 活性抛光组合物
297 94192249.9 改良的抛光组合物和抛光方法
298 97117913.1 用于抛光半导体基材上的金属层的磨料组合物及其用途
299 97116064.3 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
300 97126036.2 抛光组合物
301 97126031.1 抛光剂组合物
302 98110778.8 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
303 96197567.9 改进的抛光浆料和其使用方法
304 97199945.7 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
305 99107174.3 边抛光组合物
306 99108657.0 抛光组合物
307 98123848.3 pH值缓冲的浆液及其在抛光中的应用
308 98120987.4 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法
309 98113547.1 白米抛光剂及其制备方法
310 97106050.9 不锈钢抛光液
311 97107665.0 VCD光碟片抛光剂
312 99125836.3 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
313 00100956.7 聚合物作为家具抛光剂的应用
314 99111114.1 抛光组合物
315 98807509.1 半导体基片用的抛光剂
316 99800657.2 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
317 98809114.3 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
318 99115749.4 一种化学抛光剂及其使用方法
319 00118032.0 用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物
320 98809580.7 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
321 00114266.6 车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法
322 00117632.3 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
323 99101890.7 抛光和刨平表面用的组合物和方法
324 99118604.4 抛光组合物
325 99111787.5 输送基片机械抛光研磨悬浮液的设备和方法
326 98119024.3 一种无腐蚀脉冲电化学抛光溶液及工艺
327 98112740.1 一种防潮白抛光膏
328 99120301.1 化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法
329 99108532.9 抛光组合物和表面处理组合物
330 00105586.0 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
331 00128846.6 抛光组合物
332 00131713.X 抛光组合物
333 00131712.1 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
334 99802868.1 光学抛光制剂
335 00130570.0 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
336 00109525.0 用于化学机械抛光的组合物
337 01104631.7 用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
338 01103041.0 抛光研磨用的研磨油组合物
339 01111755.9 混合抛光膏剂
340 01104764.X 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
341 99809559.1 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
342 99809560.5 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
343 99808305.4 化学机械抛光浆料和其使用方法
344 01116934.6 抛光组合物
345 01122164.X 用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
346 01103203.0 抛光组合物
347 99117409.7 铝型材抛光液无能耗简易回收法
348 99806193.X 用于铜基材的化学机械抛光浆料
349 00133674.6 纳米级抛光液及其制备方法
350 01104762.3 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
351 01110439.2 半导体晶片抛光浆料供应量的控制
352 01121960.2 抛光组合物和抛光方法
353 01111345.6 抛光浆料
354 00803144.4 流体喷布式固定研磨剂抛光垫
355 01122298.0 抛光组合物及使用它的抛光方法
356 01141166.X 抛光剂组合物
357 01141167.8 抛光剂组合物
358 01141168.6 抛光剂组合物
359 00808137.9 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
360 00809453.5 用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
361 01142566.0 用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
362 01142936.4 抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
363 01143343.4 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
364 01143362.0 用于SiO₂隔离层化学－机械抛光的酸性抛光膏
365 00120635.4 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
366 01800919.0 抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
367 01800964.6 磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
368 01801018.0 抛光剂及其制造方法以及抛光方法
369 02103380.3 抛光组合物及使用它的抛光方法
370 00809281.8 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
371 00811608.3 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
372 00813314.X 化学机械抛光后半导体表面的清洗溶液
373 02105963.2 液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置
374 02132423.9 一种浮法抛光液膜厚度测量装置
375 02118389.9 含水涂料组合物和地板抛光组合物
376 02117756.2 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
377 200710018973.8 磁流变抛光液及其制备方法
378 200680008151.5 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
379 200610116122.2 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
380 200610107031.2 铜制品抛光剂的制造方法
381 200610116746.4 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
382 200610116747.9 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
383 200610136496.0 液压抛光机
384 200610117669.4 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
385 200710148276.4 用于电解抛光的电解液以及电解抛光方法
386 200710188401.4 非平衡液态复合脉冲等离子抛光方法
387 200710191267.3 金属抛光剂及其制备方法
388 200710194162.3 抛光组合物
389 200680017687.3 一体式抛光剂配送器及擦抹器
390 200680017799.9 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
391 200710199425.X 抛光组合物
392 200710145660.9 一种用于化学机械抛光的淤浆组合物及其前体组合物
393 200610119335.0 非离子型聚合物在自停止多晶硅抛光液制备及使用中的应用