抛光液 发明专利 644 项
序号 专利号 名称
1 01118250.4 物理化学的电子束抛光方法
2 02142015.7 抛光组合物
3 02143984.2 铝电解抛光的方法和其应用
4 02126727.8 不用磨料泥浆的玻璃抛光材料及其使用方法
5 02155461.7 一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
6 01806808.1 用于自抛光防污漆料的无金属粘结剂
7 01807432.4 抛光剂和生产平面层的方法
8 02154315.1 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
9 02116759.1 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
10 02127360.X 抛光组合物及使用它的抛光方法
11 02157402.2 抛光组合物
12 02159810.X 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物
13 02160886.5 用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接触插头的方法
14 02159045.1 用于钌的化学机械抛光的溶液
15 01809394.9 抛光剂组合物
16 01811268.4 金属CMP用的抛光组合物
17 01811444.X 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
18 02134442.6 一种抛光砖色料的配方
19 03103408.X 化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
20 01812907.2 抛光液组合物
21 01812364.3 用于CMP的含硅烷的抛光组合物
22 02124006.X 一种超精密抛光膜及其制造方法
23 03148219.8 金花米黄陶瓷抛光砖用色料
24 02114147.9 铜化学－机械抛光工艺用抛光液
25 02120508.6 一种墙面抛光防污蜡的制作方法
26 03119524.5 失效稀土抛光粉的再生方法
27 00819633.8 包含纤维和含金属共聚物的自抛光型海洋防污漆组合物
28 02116761.3 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液
29 00817090.8 抛光或平滑化基体的方法
30 00816964.0 利用电解和/或超声小室进行酸洗和/或抛光的局部清洗机
31 95116303.5 金属表面抛光液
32 95193129.6 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法
33 96117135.9 反转电流法的铝材电解抛光
34 95120179.4 金属表面抛光溶液及抛光工艺
35 95119801.7 不锈钢设备动态电解复合抛光方法
36 97101813.8 抛光组合物
37 96121008.7 抛光剂
38 85102657 铜锌合金表面的电抛光方法
39 85107373 一种快速抛光剂
40 86100517 锗酸铋_(ＢＧＯ)_单晶的表面抛光技术
41 87102270 磨削、研磨和抛光用基体物质
42 87101316 一种玻璃抛光的方法
43 88107422.5 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
44 87104262.2 铝及铝合金碱性化学抛光溶液
45 89106422.2 高效有色金属抛光膏及制备方法
46 90105310.4 研磨用聚氨酯泡沫抛光片及其制造方法
47 89104530.9 抛光液
48 91101198.6 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
49 91101197.8 不锈钢表面化学抛光浴液及方法
50 91104335.7 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法
51 90107304.0 抛光方法和组合物
52 91106657.8 一种挤压抛光工作介质及其制造方法
53 93102414.5 抛光和刨平表面用的组合物和方法
54 92104320.1 无油水基研磨抛光膏
55 92108497.8 溶胶型硅片抛光剂
56 93117574.7 化合物半导体化学抛光腐蚀液
57 93105636.5 一种活性抛光剂及其制备方法
58 93106804.5 高效抛光磨刷石及其制备工艺
59 93118984.5 固体抛光剂
60 94119992.4 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
61 94193257.5 活性抛光组合物
62 94192249.9 改良的抛光组合物和抛光方法
63 97116804.0 一种用于化学-机械抛光的抛光盘及其制造方法
64 97117913.1 用于抛光半导体基材上的金属层的磨料组合物及其用途
65 97116064.3 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
66 97126036.2 抛光组合物
67 97126031.1 抛光剂组合物
68 97190634.3 热增强平板玻璃及其板边区的精抛光方法
69 98110778.8 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
70 96197567.9 改进的抛光浆料和其使用方法
71 97199945.7 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
72 99107174.3 边抛光组合物
73 99108657.0 抛光组合物
74 98123848.3 pH值缓冲的浆液及其在抛光中的应用
75 98115207.4 制作抛光陶瓷铺砌层和涂层的工艺
76 98120987.4 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法
77 97106050.9 不锈钢抛光液
78 97107665.0 VCD光碟片抛光剂
79 97105248.4 稀土抛光粉的生产方法
80 99125836.3 用于化学机械平面加工的含过氧化物抛光液的稳定方法
81 00110032.7 小型全自动皮革上油抛光机
82 00100956.7 聚合物作为家具抛光剂的应用
83 99116008.8 玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制造方法
84 98807161.4 抛光玻璃
85 99111114.1 抛光组合物
86 98807509.1 半导体基片用的抛光剂
87 00102007.2 不锈钢丝网电解抛光处理工艺及专用设备
88 99800657.2 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
89 99115749.4 一种化学抛光剂及其使用方法
90 00118032.0 用于机械化学抛光低介电常数聚合物类绝缘材料层的组合物
91 00114266.6 车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法
92 99101890.7 抛光和刨平表面用的组合物和方法
93 99118604.4 抛光组合物
94 98119024.3 一种无腐蚀脉冲电化学抛光溶液及工艺
95 98112740.1 一种防潮白抛光膏
96 99108532.9 抛光组合物和表面处理组合物
97 99104906.3 一种金刚石膜的高效抛光加工方法
98 99113799.X 全玻化渗花瓷质抛光砖
99 00105586.0 适用于半导体化学机械抛光的金属氧化物浆料的制备方法
100 00128846.6 抛光组合物
101 00131713.X 抛光组合物
102 00131712.1 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
103 99802868.1 光学抛光制剂
104 00130570.0 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
105 00109525.0 用于化学机械抛光的组合物
106 01104631.7 用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
107 01103041.0 抛光研磨用的研磨油组合物
108 01111755.9 混合抛光膏剂
109 01104764.X 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
110 99809559.1 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
111 99809560.5 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
112 99808305.4 化学机械抛光浆料和其使用方法
113 00105407.4 磁性抛光粒的制造方法
114 01107673.9 一种既切削又抛光的混合砂及其制造方法
115 01116934.6 抛光组合物
116 01122164.X 用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法
117 01103203.0 抛光组合物
118 99117409.7 铝型材抛光液无能耗简易回收法
119 99806193.X 用于铜基材的化学机械抛光浆料
120 99801686.1 抛光铜膜后清洁处理半导体衬底的方法和设备
121 00133674.6 纳米级抛光液及其制备方法
122 01104762.3 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
123 99813618.2 用于低介电常数材料的氧化抛光淤浆
124 01121960.2 抛光组合物和抛光方法
125 01111345.6 抛光浆料
126 01122494.0 化学机械抛光用淤浆及其形成方法和半导体器件制造方法
127 01122298.0 抛光组合物及使用它的抛光方法
128 01141166.X 抛光剂组合物
129 01141167.8 抛光剂组合物
130 01141168.6 抛光剂组合物
131 00808137.9 在二氧化硅化学机械抛光过程中减少/消除划痕和缺陷的组合物和方法
132 00809453.5 用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
133 01142566.0 用于金属和电介质结构化学机械抛光的抛光膏
134 01142936.4 抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
135 01143343.4 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏
136 01143362.0 用于SiO₂隔离层化学－机械抛光的酸性抛光膏
137 00120635.4 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
138 00810391.7 "铈和/或镧的磷酸盐凝胶,其制备方法及其在抛光中的应用"
139 01800919.0 抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
140 01800964.6 磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
141 01801018.0 抛光剂及其制造方法以及抛光方法
142 02103380.3 抛光组合物及使用它的抛光方法
143 00809281.8 含硅烷改性研磨颗粒的化学机械抛光(CMP)组合物
144 00811608.3 含有含硅共聚物和纤维的自抛光性海洋防污漆组合物
145 00811637.7 抛光系统及其使用方法
146 00811638.5 化学机械抛光系统及其使用方法
147 00811639.3 含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法
148 01130205.4 一种不锈钢化学抛光方法
149 01109908.9 一种抛光膜及其制备方法
150 01109909.7 一种生物降解型抛光膜及其制造方法
151 01107686.0 一种抛光砖废泥陶粒及其制备方法
152 02118389.9 含水涂料组合物和地板抛光组合物
153 02117756.2 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
154 200710018973.8 磁流变抛光液及其制备方法
155 200680008151.5 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
156 200610116122.2 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
157 200610107031.2 铜制品抛光剂的制造方法
158 200610116746.4 用于抛光低介电材料的化学机械抛光液
159 200610116747.9 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
160 200610117669.4 一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液
161 200710148276.4 用于电解抛光的电解液以及电解抛光方法
162 200680014774.3 具有形貌图案化的膜的膜介导的电抛光
163 200710188401.4 非平衡液态复合脉冲等离子抛光方法
164 200610123181.2 一种镁合金化学抛光处理工艺
165 200710191267.3 金属抛光剂及其制备方法
166 200710194162.3 抛光组合物
167 200680017799.9 用于含有金属离子氧化剂的化学机械抛光组合物中的二羟基烯醇化合物
168 200680010161.2 高密度碳化物的超级抛光
169 200610123535.3 一种幻彩微晶超大颗粒抛光砖的制备方法
170 200710300043.1 使用高岭土生产抛光粉的方法
171 200710199425.X 抛光组合物
172 200710145660.9 一种用于化学机械抛光的淤浆组合物及其前体组合物
173 200610119335.0 非离子型聚合物在自停止多晶硅抛光液制备及使用中的应用
174 200710180578.X 便于清洗的轴承内套抛光油添加剂
175 200710300516.8 钌-阻挡层抛光浆料
176 200680023153.1 用于铝的化学机械抛光的浆液
177 200680023347.1 用于抛光高阶梯高度氧化层的自动停止研磨剂组合物
178 200710000112.7 稀土精矿制备高铈钠米量级稀土抛光粉的方法
179 200710199423.0 抛光组合物
180 200680021023.4 可控的电化学抛光方法
181 200710000339.1 淋浆法瓷质抛光砖的生产方法
182 200710032793.5 一种有色抛光砖的制备方法
183 200710193158.5 一种抛光膜及其制备方法
184 200710036674.7 一种低介电材料抛光液
185 200680026613.6 包含具有聚氨酯基体的互渗液化烯类单体网状物的抛光垫
186 200810004625.X 金属抛光液和使用该金属抛光液的抛光方法
187 200810020779.8 高效高精度蓝宝石抛光液及其制备方法
188 200680027293.6 铜纯化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法
189 200710001877.2 抛光组合物和抛光方法
190 200710106544.6 用于化学机械抛光的分散体
191 200810010596.8 一种化学机械抛光半导体晶片用的抛光液
192 200810005807.9 金属抛光组合物和使用它的化学机械抛光方法
193 200810030955.6 离子束抛光工艺修形能力的评价方法
194 200810030904.3 用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法
195 200810015430.5 半导体材料的电解抛光方法及装置
196 200410022936.0 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法
197 02819416.0 抛光组合物
198 03126848.X 一种渗花抛光砖用釉料及使用方法
199 200410027086.3 一种作为超白抛光瓷砖原料的球土及其生产方法
200 200410058661.6 多孔聚氨基甲酸乙酯抛光片
201 02822664.X 一种用于化学-机械抛光浆中颗粒的制备方法以及该方法制备的颗粒
202 02822586.4 电解抛光组件以及对导电层执行电解抛光的方法
203 200410062868.0 抛光组合物
204 200410055263.9 化学/机械抛光用水分散体
205 02821254.1 含硼抛光系统及方法
206 200410079020.9 一种利用抛光废料生产陶瓷砖的方法
207 200410068895.9 玻化抛光地板砖防污剂及其制备方法
208 200410083024.4 一种陶瓷抛光砖的生产方法及其生产的陶瓷抛光砖
209 200410057966.5 用于镍基涂层平坦化的无颗粒抛光流体
210 200410073845.X 玻化抛光地板砖清洗剂及其制备方法
211 200410079743.9 用于半导体晶片的抛光组合物
212 200410055841.9 用于抛光半导体层的组合物
213 02803726.X 含碱金属的抛光系统及方法
214 200410079102.3 抛光组合物
215 02827213.7 抛光垫
216 200310108609.2 水基地板抛光剂用乳胶
217 200410011818.X 阻挡层抛光流体
218 200410066674.8 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
219 200410073976.8 用于CMP的浆料、抛光方法及半导体器件的制造方法
220 200410011819.4 高速阻挡层抛光组合物
221 200410083441.9 抛光组合物
222 200310108751.7 磷酸脂改性的地板抛光剂用乳胶
223 200410080634.9 用于金属化学机械抛光的新型浆料
224 200310105203.9 一种化学机械抛光液
225 03802695.3 钨抛光溶液
226 200410092531.4 抛光组合物和抛光方法
227 200410096136.3 CMP浆料、抛光方法和半导体器件的制造方法
228 200410084490.4 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用
229 03803796.3 金属基板化学-机械抛光方法
230 200410102509.3 建筑陶瓷抛光废渣作膜法处理的填滤料应用及使用方法
231 200410096391.8 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
232 200410097812.9 抛光组合物和抛光方法
233 200410104677.6 用于铜的受控抛光的组合物和方法
234 200410082137.2 用于铜的低下压力抛光的组合物和方法
235 200410092968.8 用于抛光铜的组合物和方法
236 200410015151.0 使微粉陶瓷抛光砖具有逼真石材效果的方法
237 200410104484.0 抛光组合物和抛光方法
238 03806650.5 自抛光防污漆
239 200410093370.0 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液
240 03806208.9 脆性材料基板的划刻器、脆性材料基板的处理机械、脆性材料基板的抛光装置以及脆性材料基板的划刻和断开系统
241 03810206.4 电解抛光和/或电镀设备及方法
242 200510023377.X 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
243 03813172.2 低K介电材料的化学机械抛光方法
244 03812996.5 用于高精密度抛光的金属氧化物粉末及其制备方法
245 200510052407.X 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
246 200510052880.8 抛光组合物和抛光方法
247 03814763.7 用于在含有硫酸和氢氟酸的抛光浴中抛光玻璃制品时减少和控制形成的六氟硅酸根的方法
248 03816146.X "金属抛光组合物,使用组合物进行抛光的方法以及使用抛光方法来生产晶片的方法"
249 200510055087.3 抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法
250 200410075899.X 抛光液和抛光有色金属材料的方法
251 03817168.6 含导电聚合物的抛光组合物
252 200410081577.6 利用陶瓷抛光尾泥或陶瓷废料制备橡塑用填料的方法
253 200410017002.8 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
254 200510059249.0 抛光用组合物及抛光方法
255 200510059251.8 抛光用组合物及抛光方法
256 200510059252.2 抛光组合物及抛光方法
257 03817386.7 地板用水合树脂分散体以及使用这种水合树脂分散体的地板抛光组合物
258 200510067780.2 用于抛光半导体薄层的氧化铈浆料
259 200510020420.7 利用陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的工艺方法
260 03822925.0 可结晶玻璃及其在制备具有优良可抛光表面的耐断裂高刚性玻璃陶瓷中的应用
261 03808166.0 电抛光和电镀方法
262 02150501.2 化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法
263 03148693.2 铂化学机械抛光用的溶液
264 02131871.9 化学抛光液
265 02138213.1 不锈钢电化学研磨(抛光)方法
266 03130446.X 稀土抛光粉的制备方法
267 03152484.2 用于化学机械抛光的淤浆
268 03130372.2 辣椒碱自抛光防污涂料及其制备方法
269 01821165.8 处理废水的有氧抛光系统
270 02146281.X 一种钢模具切削抛光用硫磺油石
271 03127654.7 硅藻土磨料抛光剂的制备方法
272 02804506.8 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
273 03164917.3 共聚物水乳液和多价金属化合物之间的反应产物以及含有该产物的抛光组合物
274 200310104711.5 用于化学机械抛光的水分散体及用途
275 03151489.8 用于化学机械抛光的水分散体和半导体设备的生产方法
276 03152491.5 用于抛光铜基金属的浆
277 03127205.3 抛光组合物
278 200310116366.7 评价磨粒质量的方法、抛光方法以及玻璃抛光用的磨料
279 02151958.7 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺
280 02810032.8 化学机械抛光组合物及其相关方法
281 03100995.6 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
282 200310124640.5 抛光液组合物
283 02157322.0 一种石材镜面效果抛光膏的制作方法
284 02803940.8 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫
285 03154955.1 用于金属的化学机械抛光（CMP）的浆料及其使用
286 02811936.3 铈基抛光料和铈基抛光浆料
287 200410007656.2 抛光组合物
288 200410006812.3 化学机械抛光浆液
289 02814368.X 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
290 02136068.5 玻璃容器的火焰抛光装置及玻璃容器的火焰抛光方法
291 03121596.3 钛及钛合金制品的等离子体抛光方法
292 200410034215.1 抛光组合物
293 200310112065.7 一种瓷质砖表面抛光涂料
294 02816212.9 包括二氧化硅涂覆铈土的抛光淤浆
295 02816911.5 适用于自抛光防污漆的具有低含量可水解单体的粘结剂
296 200410043511.8 抛光组合物
297 200410043512.2 抛光组合物
298 02818538.2 稀土盐/氧化剂为基础的化学-机械抛光方法
299 200610001059.8 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液
300 200610003420.0 抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶-凝胶制备法
301 200480018455.0 化学机械抛光(CMP)贵金属
302 200610033127.9 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
303 200510134775.9 磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法
304 200510132522.8 一种抛光用超细氧化铈的制备方法
305 200610034224.X 能降低NO₂烟害的铝材二步化学抛光法
306 200410081677.9 抛光组合物和抛光方法
307 200510067350.0 阻挡层抛光溶液
308 200510069987.3 化学机械抛光浆料及抛光基板的方法
309 200510040459.5 单分散球形氧化铈的制备方法及其在高精密抛光中的用途
310 200510078812.9 用于控制半导体晶片中金属互连去除速率的抛光组合物
311 200510035085.8 交联型环保汽车抛光剂的产业化生产
312 200380101871.2 化学机械抛光铜表面用的腐蚀延迟抛光浆液
313 01817653.4 一种化学-机械抛光铜镶嵌结构所用的浆料
314 200410096662.X 抛光砖防污剂的制膜设备及方法
315 200380102127.4 用于抛光金属的组合物、金属层的抛光方法以及生产晶片的方法
316 200510082370.5 化学机械抛光组合物及有关的方法
317 200510082371.X 化学机械抛光组合物及有关的方法
318 200380104676.5 双液体泡沫家具抛光漆
319 200380105203.7 使用磺化两性试剂的铜化学机械抛光溶液
320 200510071796.0 用于化学机械平坦化的多步抛光液
321 200510083327.0 化学抛光方法、经该方法抛光的玻璃基板及化学抛光装置
322 200410054780.4 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法
323 200380105924.8 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用的组合物
324 200380105929.0 抛光和/或清洁铜互连和/或薄膜的方法及所用组合物
325 200410050914.5 瓷质抛光砖及其生产工艺
326 200510088470.9 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
327 200510084580.8 浆料、使用该浆料的化学机械抛光方法以及使用该浆料形成金属布线的方法
328 200410053679.7 用于光亮板的抛光工作轧辊及制造方法
329 200380108506.4 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
330 200510087181.7 抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法
331 200510035556.5 不锈钢表面微弧氧化研磨抛光方法
332 200380108922.4 具有微孔的聚氨酯泡沫的制备方法和由此获得的抛光垫
333 200510106720.7 制造火抛光玻璃坯的方法和设备
334 200410051233.0 渗花玻化抛光砖的生产方法
335 200480002648.7 可选择性阻隔金属的抛光液
336 200480002763.4 抛光含硅电介质的方法
337 200410051380.8 复合半透明微粉抛光砖及其生产方法
338 200510099560.8 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
339 200510099561.2 抛光组合物和使用该抛光组合物的抛光方法
340 200510108259.9 抛光剂及基片的抛光方法
341 200480003457.2 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法
342 200480005222.7 包括磺酸的CMP组合物和用于抛光贵金属的方法
343 200480005290.3 可调控的去除阻隔物的抛光浆料
344 200510104170.5 抛光组合物和使用该组合物生产布线结构的方法
345 200410080080.2 钛镍合金电化学抛光液
346 200510041507.2 纳米氧化铈的制备方法及其在砷化镓晶片化学机械抛光中的用途
347 200510119986.5 抛光垫
348 200510113455.5 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
349 200510036640.9 一种超白抛光砖及其制作工艺
350 200510118816.5 抛光组合物
351 200410083618.5 涂层超导体镍基带的电化学抛光工艺方法
352 200410036193.2 一种超白瓷质抛光砖及其生产方法
353 200410088609.5 一种单晶硅抛光片热处理工艺
354 200480005812.X 用于局部抛光控制的方法和装置
355 200510019473.7 一种抛光大面积金刚石膜的方法和装置
356 200510090552.7 浆料、化学机械抛光方法及用浆料形成电容器表面的方法
357 200510128707.1 不含磨料的化学机械抛光组合物及相关方法
358 200510129056.8 抛光用组合物及使用该组合物的抛光方法
359 200410096844.7 一种机械化学抛光方法
360 200480013195.8 抛光组合物和抛光方法
361 200410077646.6 抛光磨料及其制造方法
362 200480013761.5 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法
363 200510136163.3 化学机械抛光用的选择性浆料
364 200510116191.9 用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法
365 200510136133.2 用来减少对半导体晶片侵蚀的抛光组合物
366 200510133647.2 环保型镁配合物和辣椒碱自抛光防污涂料
367 200510008718.6 一种彩色钻抛光砖的制造方法
368 200480012926.7 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
369 200510037902.3 高性能稀土精密抛光材料的制造方法
370 200510100125.2 一种抛光砖及其生产方法
371 200510062405.9 抛光用组合物及其抛光方法
372 200510062406.3 抛光用组合物及抛光方法
373 200610059630.1 化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
374 200610059635.4 用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法
375 200610058484.0 制备具有高分散稳定性的抛光浆料的方法
376 200480022595.5 用于抛光导电材料的抛光组合物和方法
377 200610013976.8 用于大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液
378 200610013977.2 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液
379 200610013978.7 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
380 200610013979.1 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
381 200610013980.4 用于硼酸锂铯晶体的化学机械无水抛光液及平整化方法
382 200610027029.4 弹性抛光颗粒
383 200610014029.0 半导体锑化铟化学机械抛光液
384 200610013981.9 蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法
385 200510071421.4 抛光组合物及抛光制品
386 200380110445.5 用于化学机械抛光的非聚合有机颗粒
387 200610084745.6 抛光组合物
388 200610076096.5 用于金属膜的CMP浆料、抛光方法以及制造半导体器件的方法
389 200510025298.2 抛光浆料及其用途和使用方法
390 200510025299.7 抛光浆料
391 200510025300.6 抛光浆料及其用途
392 200610014297.2 硅单晶衬底材料抛光液及其制备方法
393 200610014299.1 电子玻璃的纳米SiO₂磨料抛光液
394 200610035936.3 抛光砖专用化学抛光剂
395 200610014325.0 超大规模集成电路铝布线抛光液
396 200610014296.8 用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液
397 200510025865.4 抛光浆料
398 200510025866.9 抛光浆料
399 200510025867.3 抛光浆料
400 200480025793.7 化学-机械抛光组合物及其使用方法
401 200480026003.7 用于化学机械抛光的磨料颗粒
402 200510034820.3 一种抛光剂
403 200480017729.4 用于高效清洁/抛光半导体晶片的组合物和方法
404 200610083480.8 具有增强的抛光均匀性的二氧化铈浆液组合物
405 200610036037.5 一种防滑抛光砖
406 200610047159.4 一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液
407 200610014298.7 超大规模集成电路多层布线SiO₂介质的纳米SiO₂磨料抛光液
408 200510100123.3 一种仿石抛光砖及其生产方法
409 200510027990.9 化学机械抛光液
410 200610108551.5 抛光用组合物及抛光方法
411 200510027988.1 化学机械抛光液及其用途
412 200480040377.4 抛光组合物和抛光方法
413 200480040401.4 抛光组合物和抛光方法
414 200510035557.X 抛光液
415 200610089263.X 以二氧化铈为主体的超细精密抛光粉的制备方法及抛光粉
416 200580001776.4 包括高度支化聚合物的抛光系统
417 200580001954.3 氧化形式的金属的化学机械抛光
418 200480041087.1 用于抛光衬底的方法和组合物
419 200610037067.8 一种采用低温烧结生产抛光砖的方法
420 200610047308.7 不锈钢印刷电路板精密抛光工艺
421 200580003736.3 聚氨酯抛光垫
422 200610035562.5 一种超白抛光砖
423 200580004911.0 反应器的表面抛光
424 200610086232.9 高精度复合抛光液及其生产方法、用途
425 200610086233.3 高精度抛光液及其生产方法、用途
426 200610122253.1 一种金彩色环七色颗粒瓷质渗花抛光砖及其生产方法
427 200610126796.0 抛光组合物及抛光方法
428 200610122254.6 一种冰晶玉质全透抛光砖高白透明料配方及产品生产方法
429 200510037157.2 利用玻璃纤维边角料制成的抛光磨具的配方及其制作方法
430 200610151796.6 可除去聚合物阻挡层的抛光浆液
431 200510037297.X 一种用于抛光砖成膜的纳米黏土改性硅化合物组合物及制备方法
432 200580008582.7 具有成分填充孔的多孔化学机械抛光垫
433 200580009637.6 化学机械抛光组合物及使用其的方法
434 200580010703.1 用于化学机械抛光金属表面的含金属氧化物颗粒及阳离子聚合物的分散体
435 200580009957.1 用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物
436 200510030027.6 一种富铈稀土抛光粉的生产方法
437 200610135919.7 抛光用组合物及抛光方法
438 200610139930.0 抛光浆、Ga_xIn_1-xAs_yP_1-y晶体表面处理方法和Ga_xIn_1-xAs_yP_1-y晶体衬底
439 200610141458.4 抛光液体
440 200610142160.5 抛光组合物和抛光方法
441 200610139615.8 水性抛光液和化学机械抛光方法
442 200510030024.2 水基金刚石抛光液及其制备方法
443 200510107761.8 玻璃表面常温抛光翻新工艺
444 200610099354.1 抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的制备方法
445 200610099589.0 抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法
446 200610087629.X 一种碱性硅晶片抛光液
447 200510109406.4 电解抛光液和其平坦化金属层的方法
448 200510030871.9 用于阻挡层的化学机械抛光浆料
449 200510030870.4 铜的化学机械抛光浆料
450 200510030856.4 钽阻挡层用化学机械抛光浆料
451 200510030869.1 用于钽阻挡层的化学机械抛光浆料
452 200580017301.4 电化学-机械抛光组合物及使用其的方法
453 200610123726.X 纳米防污抛光砖的生产工艺
454 200610077360.7 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物
455 200580019842.0 含钨基材的抛光方法
456 200610105133.0 抛光液以及抛光Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体晶片的方法
457 200510086960.5 一种精密抛光晶片用有机物清洗液
458 200510101422.9 铝合金化学磨砂无烟抛光技术
459 200610123991.8 利用陶瓷抛光砖废料制备硅酸盐水泥的方法
460 200610166853.8 表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺
461 200610034918.3 一种合成树脂幕墙用弹性抛光腻子
462 200610169030.0 用来抛光半导体层的组合物
463 200580025563.5 用于贵金属的抛光组合物
464 200580028933.0 抛光浆料，用于信息记录介质的玻璃基材的制造方法和信息记录介质的制造方法
465 200710008374.8 阻挡层用抛光液
466 200710006190.8 用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法
467 200710019741.4 碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法
468 200710037163.7 一种蓝宝石衬底化学机械抛光浆液
469 200710005150.1 多组分阻挡层抛光液
470 200710092346.9 抛光剂
471 200710051871.6 一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法
472 200710026590.5 一种釉面堆花一次烧抛光墙地砖
473 200710039894.5 一种低光泽抛光剂组合物及其制备方法
474 200680001015.3 用于化学机械抛光的二氧化铈粉末的制备方法及使用该粉末制备化学机械抛光浆料的方法
475 200580034854.0 用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
476 200710040356.8 聚酰亚胺抛光薄膜及其制备方法
477 200610066889.9 半导体晶片精密化学机械抛光剂
478 200710027149.9 一种瓷质抛光砖及其制作工艺
479 200710027150.1 一种超薄瓷质抛光砖及其制作工艺
480 200710022290.X 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
481 200710052198.8 一种高纯度纳米金刚石抛光膏及其制备方法
482 200710027482.X 一种抛光砖及其生产方法
483 200710027481.5 一种超白抛光砖及其生产方法
484 200710087714.0 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
485 200710099942.X H62黄铜抛光液及其制备方法
486 200580040887.6 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
487 200580041069.8 用于化学机械抛光浆料的辅助剂
488 200610078358.1 一种超白抛光砖
489 200710103256.5 适用于化学机械抛光的浆料及方法
490 200710028908.3 一种具有仿天然洞石文理的抛光砖
491 200580042525.0 抛光溶液
492 200610026938.6 用于精细表面平整处理的抛光液及其使用方法
493 200610087601.6 一种用于锗晶片的抛光液及其制备方法
494 200610087602.0 一种用于砷化镓晶片的抛光液及其制备方法
495 200710106575.1 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
496 200710109894.8 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
497 200610014412.6 一种金属抛光液及其制备方法
498 200710135810.8 抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法
499 200610014590.9 一种用于玻璃材料的抛光液及其制备方法
500 200610014594.7 一种钨抛光液及其制备方法
501 200610014597.0 一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法
502 200610014604.7 一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法
503 200610014596.6 一种除藻型抛光液
504 200610014592.8 一种防冻型抛光液及其制备方法
505 200680002121.3 用于化学机械抛光的抛光浆液和方法
506 200610029268.3 用于抛光低介电材料的抛光液
507 200710025527.X 有色金属材料表面清洁抛光膏及其制备方法
508 200610103740.3 结合电化学加工与电解抛光的复合式微加工装置及方法
509 200710143759.5 抛光用组合物以及抛光方法
510 200710131835.0 无锡自抛光防污漆
511 200610030457.2 用于抛光低介电材料的抛光液
512 200610030459.1 一种含有混合磨料的低介电材料抛光液
513 200710146854.0 抛光用组合物以及抛光方法
514 200710146855.5 抛光用组合物和抛光方法
515 200710301620.9 磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法
516 200810009627.8 抛光液
517 200810010921.0 半导体硅片化学机械抛光用清洗液
518 200810031134.4 低粘度稳定的非水基磁流变抛光液及其配制方法
519 200680033516.X 无研磨剂的抛光系统
520 200680034036.5 基于铈土的玻璃抛光组合物及其制备方法
521 200680035643.3 抛光浆料及其使用方法
522 200810030958.X 一种离子束抛光路径的规划方法
523 200810087355.3 金属抛光液和抛光方法
524 200810097446.5 不锈钢复合板喷淋酸洗、抛光、钝化的方法及装置配置
525 200710193130.1 一种马氏体不锈钢保持架电抛光工艺
526 200710039245.5 多晶硅化学机械抛光液
527 200810030959.4 离子束抛光工艺中坐标映射误差的修正方法
528 200810028502.X 一种瓷质通体抛光金碧石砖的生产方法
529 200710065387.9 化学机械抛光磨料粒子CeO₂及其制备方法
530 200810024314.X 合成革喷涂抛光用材料
531 200710065388.3 一种超细、球化稀土抛光粉及其制备工艺
532 200810011689.2 晶圆抛光用清洗剂
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534 200680039800.8 用于CMP的抛光流体和方法
535 200580051984.5 用于对多晶硅膜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及其制备方法
536 200810012181.4 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法
537 200810040033.3 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
538 200810095889.0 碱性阻挡层抛光浆液
539 200710022356.5 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法
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541 200680044775.2 增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法
542 200810040011.7 用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物
543 200680046228.8 用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料
544 200680046413.7 用于控制抛光选择性的辅助剂以及包含该辅助剂的化学机械抛光浆料
545 200810099735.9 研磨清洁剂、其制备方法及使用其进行抛光的方法
546 200710024545.6 一种处理皮革表面的疯马抛光焦亮树脂及其制作方法
547 200810128877.3 抛光液及使用该抛光液的抛光方法
548 200810146155.0 CMP抛光剂以及衬底的抛光方法
549 200810117832.6 一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液
550 200810085567.8 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
551 200810085569.7 用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
552 200710118800.3 一种铈与非铈稀土的分离以及铈基抛光粉的制备方法
553 200810120590.6 用于低碳钢纳米压入试样的抛光液
554 200810099933.5 回收稀土氧化物的方法、生产包含稀土氧化物的磨料的方法以及使用该磨料的抛光方法
555 200710025303.9 铝合金用抛光液
556 200710025304.3 一种镁合金用抛光液
557 200810212837.7 电解抛光和/或电镀设备及方法
558 200810099932.0 回收稀土氧化物的方法、生产包含稀土氧化物的磨料的方法以及使用该磨料的抛光方法
559 200710044586.1 用于抛光半导体封盖层的抛光液
560 200810131292.7 选择性阻挡层抛光浆液
561 200810131291.2 用来除去聚合物阻挡层的抛光浆液
562 200810046208.1 抛光光学元件的复配抛光粉及制备方法和抛光工艺
563 200810197208.1 一种无模板制备γ-Al₂O₃空心微球抛光材料的水热方法
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566 200710058743.4 微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液
567 200710058742.X 铝及铝合金材料抛光液
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570 200810201230.9 一种化学机械抛光用磨料及其制备方法
571 200810201175.3 硫系化合物相变材料氧化铈化学机械抛光液
572 200780003331.9 用于抛光半导体晶片的CMP浆料及使用该浆料的方法
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574 200710045691.7 一种液晶显示器抛光粉的生产方法
575 200710132163.5 不锈钢的化学抛光液
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579 200810199078.5 水溶性固体抛光蜡
580 200810226466.8 可循环使用的抛光液
581 200810130951.5 抛光液和抛光方法
582 200810149126.X 抛光液
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591 200710047467.1 一种金属铜的抛光液
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